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1200℃ mini型真空管式炉

  • 1200℃  mini型真空管式炉
  • 1200℃ mini型真空管式炉

    型号:
    T1250S
    用途:
    物理/化学气象沉积(CVD/PVD)实验以及真空/气氛保护烧结、纳米材料制备等。
    规格:
    Φ50*600mm
    特点:
    较小的炉膛不仅使得温度控制更加精准而且具有极好的稳定性

主要特点:


1、mini型真空管式炉,机身灵活小巧,可随意摆放,不占用实验室大量空间。


2、较小的炉膛不仅使得温度控制更加精确而且具有极好的稳定性。


3、最高温度可达到1200℃,基本可以满足绝大多数材料的真空烧结,且价格低廉,是一款性价比极高的实验室热处理设备。




技术参数:


产品名称

成仪1200℃mini型真空管式炉

炉膛材料

高纯氧化铝纤维

加热元件

掺钼的铁铬铝合金加热丝

极限温度

1200℃

持续工作温度

≤1150℃

升温速率

≤20℃/min(建议:10℃/min)

温区长度

200mm

恒温区长

100mm

炉管尺寸

高纯石英管Φ50*600mm

密封方式

不锈钢真空法兰            

气 密 性

真空法兰和石英炉管的气密性最高可达9.8×10-4Pa

控温方式

智能PID 30段程序控温,具有过流保护、超温和断偶报警

控温精度

±1℃

供电电源

220V  50Hz

整机功率

1.2KW

标准配件

石英管1根,不锈钢密封法兰1套,硅胶密封圈6个,氧化铝管堵2个,高温手套1副,炉钩1支,坩埚钳1把,石英舟1个,说明书1本。

外形尺寸

380×320×430 mm






 
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